CS400ES Co-PVD-System für Metalle & TCO
- Cluster-System für CIGS-Solarzellen
- Eingabe-/Ausgabeschleusenkammer, Transferkammer, 7 Prozesskammern
- Vorbehandlung durch Sputter-Ätzen, Heizen, Co-Sputtern, Co-Bedampfen, Tempern, In-situ-Analyse
- 125 mm x 125 mm
ANWENDUNG
- Co-Sputtern und Co-Bedampfen von Metallen; Sputtern von TCO für CIGS-Dünnschicht-Solarzellen in separat gepumpten Prozesskammern
- Substratvorbehandlung und Nachbehandlung durch Tempern (Chalkogenisierung)
- Beschichtung von Glassubstraten auf Carrier; Substratabmessungen 125 mm x 125 mm, 1 mm dick; Substrat-Face-up-Regime
- F&E
Technologie
Substratvorbehandlung
- HF-Sputter-Ätzen mittels Ionenquelle; Substratheizung
Chalkogenisierung
- Tempern in Selen- und Schwefelwasserstoff
- Substrattemperatur bis 700 °C
Dünnschicht-In-situ-Analyse
- HF-Magnetron-Sputtern
Deposition
- DC-Magnetron-Sputtern von Metallen
- Thermisches Bedampfen und Co-Bedampfen von Se, Cu, Ga, In und Na
- HF-Magnetron-Sputtern von i-ZnO und ZnO-Al
- Prozessierung mit elektrisch isoliertem oder geerdetem Substratträger
Anlage
Schleusenkammern
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
- Maschinenmagazin mit Hubwerk
Transferkammer
- Al-Kammer
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
- Vakuum-Roboter
- Rechteckschieber zu den Prozesskammern
Vorbehandlungskammer
- Edelstahlkammer, heiz- und kühlbar mit Wasser
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
- Substratträger mit Antrieb für Substratrotation
- Inverser HF-Sputter-Ätzer ISE-R400
Metallisierungskammer
- Edelstahlkammer, heiz- und kühlbar mit Wasser
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
- 2 Magnetron-Sputter-Quellen PPS100, konfokale Anordnung
- Schwenkbare Blenden für die Sputter-Quellen
- Substratträger mit Antrieb für Substratrotation
- Gasversorgungssystem
TCO-Sputter-Kammer
- Edelstahlkammer, heiz- und kühlbar mit Wasser
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
- 2 Magnetron-Sputter-Quellen PPS100, konfokale Anordnung
- Schwenkbare Blenden für die Sputter-Quellen
- Substratträger mit Antrieb für Substratrotation
- Gasversorgungssystem
Analysenkammer
- Edelstahlkammer, heiz- und kühlbar mit Wasser
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
- Magnetron-Sputter-Quellen PPS100, konfokale Anordnung, ein Flansch Reserve
- Schwenkbare Blenden für die Sputter-Quellen
- Substratträger mit Antrieb für Substratrotation
- Carrier-Lift-System zur Einstellung des Substrat-Target-Abstands
- Gasversorgungssystem
CIGS-Sputter-Kammer
- Edelstahlkammer, heiz- und kühlbar mit Wasser
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
- Optisch dichte Chevron-Kühlfalle großer Fläche
- 2 Magnetron-Sputter-Quellen PPS100, konfokale Anordnung
- 1 thermischer Verdampfer
- Schwenkbare Blenden für die Sputter-Quellen
- Substratträger mit Antrieb für Substratrotation
- Carrier-Lift-System zur Einstellung des Substrat-Target-Abstands
- Gasversorgungssystem
CIGS-Bedampfungskammer
- Edelstahlkammer, heiz- und kühlbar mit Wasser
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem, korrosionsgeschützt
- 5 thermische Verdampfer, konfokale Anordnung
- Quarzratemonitore
- Schwenkbare Blenden für die Verdampferquellen
- Substratträger mit Antrieb für Substratrotation
Chalkogenisierungskammer
- Edelstahlkammer, heiz- und kühlbar mit Wasser
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem, korrosionsgeschützt
- Optisch dichte Chevron-Kühlfalle großer Fläche
- Substratträger mit Antrieb für Substratrotation
- Gasversorgungssystem
- Substratheizer
