HISS300E Evaporation System für Metalle & Metalloxide
- Inline-System für Korrosionsschutzschichten
- Eingabe- und Ausgabeschleusenkammern, 2 Prozesskammern
- Vorbehandlung durch Sputter-Ätzen, Bedampfung
- 300 mm x 300 mm
Anwendung
- Jet- und Elektronenstrahlbedampfen von Metallen und Metalloxiden für Korrosionsschutzschichten; Schichtinhomogenität ≤ 5 %
- Hochproduktive Beschichtung von Stahlblech-Substraten auf Carrier im Face-down-Regime; Substratabmessung 300 mm x 300 mm
- F&E, Pilotfertigung
Technologie
Substrat-Vorbehandlung
- HF-Sputter-Ätzen
- Heizung
Deposition
- Jet-Bedampfen von Mg, Abscheiderate ≥ 8 µm/min
- Elektronenstrahlbedampfen von Al, Abscheiderate ≥ 10 µm/min
- Einzel- und Co-Bedampfungs-Regime
- Blende zur Stabilisierung der Abscheiderate
- Startdruck ≤ 1 ⋅10-5 mbar
AUSRÜSTUNG
Ein- und Ausgabekammer mit Be- und Entladestationen
- Edelstahlkammer
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
Vorbehandlungskammer
- Edelstahlkammer mit 2 Overrun-Sektionen
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
- Inverser HF-Sputter-Ätzer ISE-R400
- Heizer
- Gasversorgungssystem
Bedampfungskammer
- Edelstahlkammer mit 2 Bedampfungsstationen
- Abschirmungen zur Unterbindung des Crossover-Effektes
- Blenden zur Abschirmung der Verdampfer
- Jet-Verdampfer JEC 10 mit Graphitheizer
- Transvers-Elektronenstrahlverdampfer EVM-8 mit 4-Behälter-Schwenk-Tiegel
- Steuersystem für Depositionsprozess
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
- Gasversorgungssystem
