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Schlüsselkomponenten

Angebote für unsere F&E+Pilotsysteme und zur Nachrüstung von vorhandenen Systemen, die von uns geliefert wurden.

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Schlüsselkomponenten
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PECVD/CVD/ALD/Plasmapolymerisation

Planparallele Diode, rund
FP  PEC 200 … 360
Schichtmaterial: a-Si:H, µc-Si:H, SiOx:H, SiNx:H, SiC:H, Polymere, TiOx ... 
Schichtdickentoleranz: ± (3 ... 5 %)
Anregung: Kapazitiv, HF und VHF
Frequenz: 13,56 ... 100 MHz

Ausführung/Einsatzbereich: 
  • Integriert in Kammerflansch
  • mit/ohne Gasdusche
  • Substrat Ø (200 … 360) mm
  • Leistungsdichte bis 1 W/cm2
  • plasmachemische Reinigung
  • Ausführung in Al oder Edelstahl
  • Arbeitsdruck bis 10 mbar 

Planparallele Diode, rechteckförmig
FP  PER 400 ... 600
Schichtmaterial: a-Si:H, µc-Si:H, SiOx:H, SiNx:H, SiC:H, Polymere 
Schichtdickentoleranz: ± (4 ... 7 %)
Anregung: Kapazitiv, HF und VHF
Frequenz: 13,56 ... 60 MHz

Ausführung/Einsatzbereich: 
  • Integriert in Kammerflansch
  • mit/ohne Gasdusche
  • Substrat Ø (200 … 360) mm
  • Leistungsdichte bis 1 W/cm2
  • plasmachemische Reinigung
  • Ausführung in Al oder Edelstahl
  • Arbeitsdruck bis 10 mbar 
 

ICP-System, rund
CR-RS400
Schichtmaterial: a-Si:H, µc-Si:H, SiOx:H, SiNx:H, SiC:H 
Schichtdickentoleranz: ≤ ± 2,5 % (für Ø 150 mm)
Anregung: Induktive, HF
Frequenz: 13,56 MHz

Ausführung/Einsatzbereich: 
  • Integriert in Deckelflansch
  • Transformatornetzwerk, (1 … 5) kW
  • Extraktionsöffnung Ø 400 mm
  • Substrat max. Ø 300 mm
  • Radikalfluss, Ionenanteil (2 … 80) %
  • plasmachemische Reinigung
  • (5·10-4 … 1·10-1) mbar 

ECR Quelle, rund
RR 250 Q
Schichtmaterial: DLC 
Schichtdickentoleranz:
Anregung: Mikrowelle (ECR)
Frequenz: 2.4600 MHz

Ausführung/Einsatzbereich: 
  • Leistungsversorgung 1200 W 
  • Regelbereich (10 ... 100)% 
  • ECR-Magnetsystem, wassergekühlt 
  • Ausführung in Edelstahl 

VHF-Linearelektrode, rechteckförmig
FP LE 300, FP LE 300D
Schichtmaterial: a-Si:H, µc-Si:H, SiC:H, dynamisch 
Schichtdickentoleranz: ± (3 ... 5 %)
Anregung: Kapazitiv, VHF 
Frequenz: 40 ... 80 MHz

Ausführung/Einsatzbereich: 
  • Integriert in Kammerflansch
  • mit Gasdusche
  • Einzel- oder Doppelelektrode 
  • Substratbreite 300 mm
  • Leistungsdichte bis 1 W/cm2
  • plasmachemische Reinigung
  • Ausführung in Al oder Edelstahl

VHF-Linearelektrode, rechteckförmig
FP LE 750HT
Schichtmaterial: SiN:H, dynamisch 
Schichtdickentoleranz: ± (3 ... 5%)
Anregung: Kapazitiv, VHF
Frequenz: 40 ... 80 MHz

Ausführung/Einsatzbereich: 
  • Integriert in Kammerflansch
  • mit Gasdusche
  • Substratbreite 300 mm
  • Leistungsdichte bis 1 W/cm2
  • plasmachemische Reinigung
  • Ausführung in Graphit

Hot-wire-System
FP HW 250 
Schichtmaterial: a-Si:H, µc-Si:H, SiC:H, DLC 
Schichtdickentoleranz:
Anregung: Katalytisch
Frequenz:

Ausführung/Einsatzbereich: 
  • Hot-wire-Array, DN 250 CF
  • Substrat 100 mm x 100 mm
  • Netzteil max. 3 kW/80 W/100 A
  • Drahtarrayaufnahme mit Hubsystem
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          • 1955-1990: Neue Heimat Dresden
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          • Der private Manfred von Ardenne
          • 1907-1928: Kindheit und Jugend
          • Manfred von Ardenne als Visionär
          • 1928-1945: Berliner Jahre
          • Erbe und Vermächtnis
          • 1945-1955: Das Forschungsinstitut bei Suchumi
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