Schlüsselkomponenten

Angebote für unsere F&E+Pilotsysteme und zur Nachrüstung von vorhandenen Systemen, die von uns geliefert wurden.

Übersicht

Vertikal Inline

Horizontal Inline

Prozesskontrollsystem
VAprocos
Anwendung: Mess- und Kontrollsystem zur Stabilisierung von reaktiven Magnetron-Sputter-Prozessen; ITO, Nb₂O₅, SiO₂, ZnO:Al …

Merkmale:

Lieferbar mit konfigurierbaren Messeinrichtungen zur Definition des Prozessstatus: Plasmaintensität, Sauerstoffpartikeldruck oder MF-/DF- Katoden-Spannung
bis zu 8 periphere Analog-/Digital-Module

Röntgenfluoreszenz-Analysesystem
XRF 940 M
Anwendung: Schichtdicke und Schichtzusammensetzung bei Bedampfung und Sputtern

Merkmale:

In-situ-Messsystem für Inline-Anlagen
max. Substrattemperatur 500 °C
Messkopf mit Steuer- und Verarbeitungssystem
automatische Selbstjustage; optischer Abstandssensor

Faraday-Käfig
CR-CEA4
Anwendung: Ionenstrom- und Ionenenergie-Analyse

Merkmale:

Arbeitsdruck ≤ 1 × 10^-2 mbar
Ionenstromdichte = 0,01 … 10 mA/cm²
Ionenenergie ≤ 300 eV