Schlüsselkomponenten

Angebote für unsere F&E+Pilotsysteme und zur Nachrüstung von vorhandenen Systemen, die von uns geliefert wurden.

Übersicht

Vertikal Inline

Horizontal Inline

Sputter-/Ionenätzen

Inverser HF-Sputterätzer, rund
ISE-A 100, ISA-A 200, ISA-A 300
Prozess: Substratvorbehandlung; Ätzrate für Oxide: (1 ... 5) nm/min
Anregung: Kapazitiv, HF
Frequenz: 13,56 MHz

Ausführung/Integrationsbedingungen/Einsatzbereich:

Öffnungsdurchmesser der Hohlelektrode: 100, 200 bzw. 300 mm
Anbauquelle
Leistung (0,5 ... 1,5) kW
Gittertransparenz etwa 44 %
Arbeitsdruck (4 ... 8)·10^-3 mbar

Inverser HF-Sputterätzer, rechteckig
ISE-R 400, ISE-R 700
Prozess: Substratvorbehandlung; Ätzrate für Oxide: (1 ... 5) m/min
Anregung: Kapazitiv, HF
Frequenz: 13,56 MHz

Ausführung/Integrationsbedingungen/Einsatzbereich:

Öffnungsdurchmesser der Hohlelektrode: (400...700) mm x 150 mm
Anbauquelle
Leistung (1,5 ... 3,0) kW
Gittertransparenz etwa 44 %
Arbeitsdruck (1·10^-1... 4·10^-3) mbar

Lineare Ionenquelle
LION 420, LION 720
Prozess: Substratvorbehandlung
Anregung: DC
Frequenz:

Ausführung/Integrationsbedingungen/Einsatzbereich:

Länge Racetrack: 400/700 mm
Anbauquelle
Leistung (1,5 ... 3,0) kW
Anodenspannung 3,3 kV
Arbeitsdruck (1·10^-1... 4·10^-3) mbar

Planar-Hohlkatode, rund
FP PT 200
Prozess: Wasserstoff-Passivierung von Poly-Si
Anregung: LF oder HF
Frequenz: 0,040 bzw. 13,56 MHz

Ausführung/Integrationsbedingungen/Einsatzbereich:

Integriert in Kammerflansch
Substrat 100 mm x 100 mm/6"
Edelstahl