schlüsselkomponenten

Angebote für unsere F&E+Pilotsysteme und zur Nachrüstung von vorhandenen Systemen, die von uns geliefert wurden.

Übersicht

Vertikal Inline

Horizontal Inline

Sputtern

Rotatable-Sputter-Quelle, rohrförmig
Betriebsart: DC, RF, DC-Puls
Targetabmessung: 1 oder 2 Targetrohre; mit 160 mm im Durchmesser
Leistung: 20 kW
Substratabmessung: 450 mm
Integrationsbedingungen/Ausführung: Anbauquelle, Rotatable single/dual; anodenfrei

Wide-range-Sputter-Quelle, rechteckförmig
WSM900
Betriebsart: DC, RF, DC-Puls
Targetabmessung: 900 mm x 240 mm
Leistung: 12 kW
Substratabmessung: 600 mm
Integrationsbedingungen/Ausführung: Anbauquelle, Standard wide single

Doppel-Sputter-Quelle, rechteckförmig
SDM400 ... 900
Betriebsart: LF, DC-Puls
Targetabmessung: 2 Targets 400 ... 900 mm x 100 mm
Leistung: 12 ... 25 kW
Substratabmessung: 200 mm ... 600 mm
Integrationsbedingungen /Ausführung: DN 40 ISO-KF; Einbauquelle

Sputter-Quelle, rechteckförmig
SSM400 ... 900
Betriebsart: DC, RF, DC-Puls
Targetabmessung: 400 ... 900 mm x 100 mm
Leistung: 6 ... 12 kW
Substratabmessung: 200 mm ... 600 mm
Integrationsbedingungen/Ausführung: Anbauquelle, Standard single

Sputter-Quelle, dreieckförmig
PPS-D320
Betriebsart: DC, RF, DC-Puls
Targetdurchmesser: Seitenlänge 320 mm
Leistung: 5 kW
Substratabmessung: Durchmesser 8 Zoll
Integrationsbedingungen/Ausführung: Anbauquelle

Kleinflächen-Sputter-Quellen, rund - Baureihe PPS PPS-50
Betriebsart: DC, LF, RF, DC-Puls
Targetdurchmesser: 50 mm
Leistung: 0,5 kW
Substratabmessung: Durchmesser 1,5”
Integrationsbedingungen/Ausführung: DN 40 ISO-KF; Einbauquelle
PPS-100
Betriebsart: DC, LF, RF, DC-Puls
Targetdurchmesser: 100 mm
Leistung: 1,5 kW
Substratabmessung: Durchmesser 2,5”
Integrationsbedingungen/Ausführung: DN 40 ISO-KF; Einbauquelle
PPS-150
Betriebsart: DC, LF, RF, DC-Puls
Targetdurchmesser: 150 mm
Leistung: 3,0 kW
Substratabmessung: Durchmesser 3,0”
Integrationsbedingungen/Ausführung: DN 40 ISO-KF; Einbauquelle
PPS-A100
Betriebsart: DC, LF, RF, DC-Puls
Targetdurchmesser: 100 mm
Leistung: 1,5 kW
Substratabmessung: Durchmesser 2,5”
Integrationsbedingungen/Ausführung: DN 125 ISO-F; Anbauquelle; fokale Anordnung möglich
PPS-A150
Betriebsart: DC, LF, RF, DC-Puls
Targetdurchmesser: 150 mm
Leistung: 3,0 kW
Substratabmessung: Durchmesser 3,0”
Integrationsbedingungen/Ausführung: DN 200 ISO-F; Anbauquelle
PPS-A200
Betriebsart: DC, LF, RF, DC-Puls
Targetdurchmesser: 200 mm
Leistung: 4,0 kW
Substratabmessung: Durchmesser 5,0”
Integrationsbedingungen/Ausführung: DN 250 ISO-F; Anbauquelle
PPS-A250
Betriebsart: DC, LF, RF, DC-Puls
Targetdurchmesser: 250 mm
Leistung: 5,0 kW
Substratabmessung: Durchmesser 6,0”
Integrationsbedingungen/Ausführung: DN 320 ISO-F; Anbauquelle

Rotatable-Planar-Sputter-Quelle, rund
PPS-AR250
Betriebsart: DC, RF
Targetdurchmesser: 250 mm
Leistung: 5,0 kW
Substratabmessung: Durchmesser 6,0” ... 8,0”
Integrationsbedingungen/Ausführung: DN 400 ISO-KF; Anbauquelle

Doppelring-Planar-Sputter-Quelle, rund
PPS-DR220
Betriebsart: DC, DC-Puls
Targetdurchmesser: außen 220 mm x 125 mm, innen 120 mm
Leistung: 10 kW
Substratabmessung: Durchmesser 7,0”
Integrationsbedingungen/Ausführung: Anbauquelle

Doppelring-Planar-Sputter-Quelle, rund
FE-DRM400
Betriebsart: DC, DC-Puls
Targetdurchmesser: außen 300 mm x 200 mm, innen 130 mm x 60 mm
Leistung: 12 kW
Substratabmessung: Durchmesser 8,0”
Integrationsbedingungen/Ausführung: Anbauquelle

Die Betriebsart gilt für Metalle und Metalloxide.
Die Leistung ist in Abhängigkeit vom Targetmaterial festzulegen!
Die Substratabmessung ist Empfehlung; berücksichtigt Randabfall der Depositionsrate.
Die Schichthomogenität ist abhängig von Prozess, Abstand und Substratgröße.