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Schlüsselkomponenten

Angebote für unsere F&E+Pilotsysteme und zur Nachrüstung von vorhandenen Systemen, die von uns geliefert wurden.

  • Sputtern
  • Bedampfen
  • PECVD/CVD/ALD/Plasmapolymerisation
  • Sputter-/Ionenätzen
  • Thermische Behandlung
  • Substrathalterung und -manipulation
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Übersicht
Vertikal Inline
Horizontal Inline
Cluster
Load-Lock
Batch
Schlüsselkomponenten
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Substrathalterung und -manipulation

Substrathalter, stationär
Edelstahl, Aluminium, Molybdän, Graphit
Anwendung: Stationäre Prozesse; PECVD, Sputtern, Ätzen, Tempern, Bedampfen 

Merkmale: 
  • mit/ohne Carrier; mit/ohne Heizer
  • elektrisch geerdet, floatend oder biasfähig
  • He-Kühlung auf Anfrage
  • mit/ohne Liftsystem zur Substratübergabe/-übernahme, Elektrodenabstandseinstellung 

Drehteller
Edelstahl, Aluminium, Molybdän
Anwendung: Dynamische und stationäre Prozesse; Sputtern, Ätzen, Bedampfen 

    Merkmale: 
      Zum schrittweisen Anfahren von Bearbeitungsstationen oder zur Beschichtung im Multiple-Pass-Mode

    Wagen
    Edelstahl, Molybdän
    Anwendung: Drehung des Substrates für Änderung der Prozessierung von face-up zu face-down und umgekehrt, komplexe
    Clustersysteme

      Merkmale: 
      • Substrattransport
      • elektrisch geerdet, floatend oder biasfähig 

      Substrat-Wendesystem
      Edelstahl
      Anwendung: Drehung des Substrates für Änderung der Prozessierung von face-up zu face-down und umgekehrt, komplexe Clustersysteme

      Merkmale: 
      • Im Vakuum, ohne Substratoberflächen-Kontakt 

      Substrat-Transfer-Roboter
      BA-MAG 7
      Anwendung: Cluster-Systeme

      Merkmale: 
      • Substrat-Ø ≤ 300 mm
      • Transportierbare Masse ≤ 1000 g
      • Substrattemperatur ≤ 120 °C
      • 3 Bewegungsachsen
      • Ein- oder zweiarmig
      • Magnetischer Direktantrieb
      • Arbeitsdruck ≤ 10-8 mbar
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              • VISS600S Sputter-System
              • VISS600S für Metalloxide
            • Horizontal Inline
              • HISS300E Evaporation System für Metalle & Metalloxide
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              • CS400ES Co-PVD System
              • CS800ES PVD System
              • CS400PS PECVD & PVD System
              • CS400PS PECVD & Sputter-System
              • CS1200S Sputter-System
            • Load-Lock
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              • LS400S Sputter-System für Metalle und Oxide
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              • 1928-1945: Laboratorium für Elektronenphysik
              • Plasmaphysikalische Technologien
              • 1945-1955: Institut für industrielle Isotopentrennung
              • Vakuumbeschichtung
              • 1955-1990: Forschungsinstitut Manfred von Ardenne
              • Biomedizin
              • 1991 bis heute: VON ARDENNE
              • Meilensteine der Unternehmensgeschichte
            • Manfred von Ardenne
              • Einleitung
              • 1955-1990: Neue Heimat Dresden
              • 1907: Geburt und Herkunft
              • Der private Manfred von Ardenne
              • 1907-1928: Kindheit und Jugend
              • Manfred von Ardenne als Visionär
              • 1928-1945: Berliner Jahre
              • Erbe und Vermächtnis
              • 1945-1955: Das Forschungsinstitut bei Suchumi
              • Naturwissenschaftliche Entdeckungen und Erfindungen
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