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f&e- und pilotsysteme

Unsere modularen F&E- und Pilotsysteme ermöglichen Produktentwicklung und Fertigung für unterschiedlichste Anwendungsgebiete mit allen wichtigen Technologien der Vakuumdünnschichttechnik. Der modulare Aufbau sichert optimale Anpassung an Technologie und Produktivität. UHV-gerechte Fertigung und qualifizierte Lieferantenbeziehungen kennzeichnen
das hohe Fertigungsniveau.
Prozessierbare Substrate: Platten bis 1200x1200 mm² | Wafer | Rohre | 3D-Substrate
Gern stehen wir Ihnen für weitere Auskünfte zur Verfügung. Kontaktieren Sie uns!

Übersicht
Vertikal Inline
Horizontal Inline
Cluster
Load-Lock
Batch
Schlüsselkomponenten
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Hauptanwendungsgebiete

  • Photovoltaik  
  • Optik
  • Sensorik
  • Elektronik/MEMS
  • Energietechnik

Prozessierbare Werkstücke & verfügbare Technologien

  • Platten 
  • Wafer
  • Rohre
  • Körper

verfügbare technologien  

  • Sputtern
  • Bedampfen mit/ohne Ionenstützung
  • Plasmachemische Gasphasenabscheidung (PECVD)
  • Plasmapolymerisation, Atomlagenabscheidung (ALD)
  • Tempern
  • Ionenätzen
  • Plasmachemisches Ätzen

liefer- & Leistungsumfang  

Anlagencharakteristik

  • gekennzeichnet durch hohe Flexibilität für maßgeschneiderte Lösungen und Optionen zur Anlagenerweiterung
  • mit innovativen Lösungen und langjährigen Erfahrungen in der Vakuumdünnschichttechnik

Fertigungs- & Technologieniveau

  • zertifiziert nach ISO 9001
  • gewährleistet durch Komponenten aus eigener Entwicklung und von anerkannten Spezialisten
  • gesichert durch erprobte Lösungen aus der Serienfertigung

Leistungsangebot

  • sachkundige Beratung
  • hochqualfizierter Maschinenbau
  • Technologieentwicklung
  • Service nach Kundenwunsch

Wir arbeiten weltweit mit renommierten Forschungseinrichtungen und Industriepartnern zusammen.

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          • CS400ES Co-PVD System
          • CS800ES PVD System
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          • CS400PS PECVD & Sputter-System
          • CS1200S Sputter-System
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          • LS400S Sputter-System für Metalle und Oxide
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          • Einleitung
          • Elektronenstrahltechnologien
          • 1928-1945: Laboratorium für Elektronenphysik
          • Plasmaphysikalische Technologien
          • 1945-1955: Institut für industrielle Isotopentrennung
          • Vakuumbeschichtung
          • 1955-1990: Forschungsinstitut Manfred von Ardenne
          • Biomedizin
          • 1991 bis heute: VON ARDENNE
          • Meilensteine der Unternehmensgeschichte
        • Manfred von Ardenne
          • Einleitung
          • 1955-1990: Neue Heimat Dresden
          • 1907: Geburt und Herkunft
          • Der private Manfred von Ardenne
          • 1907-1928: Kindheit und Jugend
          • Manfred von Ardenne als Visionär
          • 1928-1945: Berliner Jahre
          • Erbe und Vermächtnis
          • 1945-1955: Das Forschungsinstitut bei Suchumi
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