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f&e+pilotsysteme

Unsere modularen F&E+Pilotsysteme werden für Forschungs- und Entwicklungsaufgaben in vielen verschiedenen Anwendungsgebieten eingesetzt. Sie werden dabei in zunehmendem Maße auch für Produktionszwecke kleiner Substratgrößen bis 400 mm x 400 mm verwendet.
Unsere Kunden wählen zwischen zahlreichen Anlagenkonfigurationen aus, die zudem exakt auf ihre individuellen Vorstellungen zugeschnitten werden können. Der modulare Aufbau ermöglicht dadurch eine optimale Anpassung an Technologie und Produktivität. Gern stehen wir für weitere Auskünfte zur Verfügung. Kontaktieren Sie uns!

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Vertikal Inline
Horizontal Inline
Cluster
Load-Lock
Batch
Schlüsselkomponenten
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Hauptanwendungsgebiete

  • Photovoltaik  
  • Optik
  • Sensorik
  • Elektronik/MEMS
  • Energietechnik

Prozessierbare Werkstücke & verfügbare Technologien

  • Platten 
  • Wafer
  • Rohre
  • Körper

verfügbare technologien  

  • Sputtern
  • Bedampfen mit/ohne Ionenstützung
  • Plasmachemische Gasphasenabscheidung (PECVD)
  • Plasmapolymerisation, Atomlagenabscheidung (ALD)
  • Tempern
  • Ionenätzen
  • Plasmachemisches Ätzen

liefer- & Leistungsumfang  

Anlagencharakteristik

  • gekennzeichnet durch hohe Flexibilität für maßgeschneiderte Lösungen und Optionen zur Anlagenerweiterung
  • mit innovativen Lösungen und langjährigen Erfahrungen in der Vakuumdünnschichttechnik

Fertigungs- & Technologieniveau

  • zertifiziert nach ISO 9001
  • gewährleistet durch Komponenten aus eigener Entwicklung und von anerkannten Spezialisten
  • gesichert durch erprobte Lösungen aus der Serienfertigung

Leistungsangebot

  • sachkundige Beratung
  • hochqualfizierter Maschinenbau
  • Technologieentwicklung
  • Service nach Kundenwunsch

Wir arbeiten weltweit mit renommierten Forschungseinrichtungen und Industriepartnern zusammen. Referenzliste 

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          • CS400PS PECVD & PVD System
          • CS400PS PECVD & Sputter-System
          • CS400S Sputter-System
          • CS500PS PECVD & Sputter-System
          • CS850S Sputter-System
          • CS1200S Cluster-System
          • CS1270E Co-Evaporation-System
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          • LS730S Sputter-System für Metalle & Oxide
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        • Profil
        • VON ARDENNE weltweit
        • Unternehmensgeschichte
          • Einleitung
          • Elektronenstrahltechnologien
          • 1928-1945: Laboratorium für Elektronenphysik
          • Plasmaphysikalische Technologien
          • 1945-1955: Institut für industrielle Isotopentrennung
          • Vakuumbeschichtung
          • 1955-1990: Forschungsinstitut Manfred von Ardenne
          • Biomedizin
          • 1991 bis heute: VON ARDENNE
          • Meilensteine der Unternehmensgeschichte
        • Manfred von Ardenne
          • Einleitung
          • 1955-1990: Neue Heimat Dresden
          • 1907: Geburt und Herkunft
          • Der private Manfred von Ardenne
          • 1907-1928: Kindheit und Jugend
          • Manfred von Ardenne als Visionär
          • 1928-1945: Berliner Jahre
          • Erbe und Vermächtnis
          • 1945-1955: Das Forschungsinstitut bei Suchumi
          • Naturwissenschaftliche Entdeckungen und Erfindungen
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