VISS600S Sputter-System für Metalle Und Metalloxide
- Inline-System für optische Schichten
- Eingabe- und Ausgabeschleusenkammern, 2 Prozesskammern
- Vorbehandlung durch Sputter-Ätzen, Sputtern
- 600 mm x 600 mm
Anwendung
- Sputtern von Metallen und Metalloxiden für optische Einfach- und Mehrfachschichten mit exzellenter Schichthomogenität
- Hochproduktive Beschichtung von Keramik- oder Glassubstraten auf Carrier
- Substratabmessung 600 mm x 600 mm, Substratabmessung
≤ 10 mm , 7o-Carrier-Neigung - Fertigung, reinraumkompatibel
Technologie
Substrat-Vorbehandlung
- HF-Sputter-Ätzen, Einzel- oder Mehrschritt-Regime
Deposition
- DC-Magnetron-Sputtern, unipolares Regime
- HF-Magnetron-Sputtern, unipolares Regime
- Einzel- oder Mehrschritt-Bearbeitungsregime
- Startdruck ≤ 5⋅10-7 mbar
AUSRÜSTUNG
Ein- und Ausgabekammern mit Be- und Entladestation
- Edelstahlkammer
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
Vorbehandlungskammer
- Inverser HF-Sputter-Ätzer
Sputter-Kammer
- Edelstahlkammer
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
- Rechteck-Standard-Einzel-DC- und HF-Magnetron-Sputter-Quelle, leicht zugänglich zur Wartung
- Erweiterbar auf bis zu 5 Bearbeitungsstationen
- Gasversorgungssystem
