Vakuumbeschichtung
Es folgen eine Vielzahl von Entwicklungsprojekten zur industriellen Großflächenbeschichtung, wie
1966 das elektronenstrahlbasierte Hochratebedampfen von Bandstahl mit Aluminium für die Verpackungsindustrie,
1969 eine Reihe von Batchtype-Anlagen zur Herstellung hochwertiger Kondensatorfolie für die Elektronikindustrie oder
1972 die erste Vakuumbeschichtungsanlage mit innerer Magazinierung zur Herstellung von wärmedämmendem Flachglas für die Gebäudeverglasung.
Dominiert für die ersten Projekte zur Großflächenbeschichtung noch das Aufdampfverfahren in seinen verschiedenen Spielarten, so beginnt ab 1974 der Siegeszug der Sputter-Technologien auf der Grundlage der neuen Schlüsselkomponente "Ringspalt-Magnetron". Das Sputtern verfügt über solche spezifischen technologischen Vorteile, wie stöchiometrische Genauigkeit, Langzeitstabilität und Schichtgleichmäßigkeit und erobert damit schrittweise das Gebiet der Vakuumbeschichtung.
Vorläufer des Ringspalt-Magnetrons im von Ardenne-Institut ist 1963 die Entwicklung einer analog aufgebauten Getter-Ionenpumpe zur Erzeugung sauerstoffarmer Ultravakua, die bereits alle wesentlichen Funktionselemente des späteren Magnetrons aufweist. Deren Potenzial für die Großflächenbeschichtung wird allerdings erst 10 Jahre später erkannt.