DAS - Duales Anoden-Sputtern

Duales Anoden-Sputtern (DAS) ist eine industriell erprobte Magnetron-Beschichtungstechnologie. Sie kann für keramische Prozesse verwendet werden mit Materialien wie Nioboxid (NbOx), Titanoxid (TiOx) oder intrinsischem Zinkoxid (i-ZnO), zum Beispiel in der Display- und Photovoltaik-Industrie. DAS garantiert eine gute Verfügbarkeit der Anode, da sie regelmäßige gereinigt wird, selbst wenn dielektrische Materialien abgeschieden werden.

Die DAS-Technologie ermöglicht uns, von der gemeinhin verwendeten AC-MF Methode zu einem mit Gleichspannung angetriebenen Prozess überzugehen, der die Wärmebelastung des Substrats erheblich verringert. Durch die Verwendung von DAS mit reaktiver Prozesssteuerung können hohe Abscheidungsraten im Übergangsbereich erzielt werden. Das ist eine entscheidende Verbesserung, vor allem bei der Abscheidung von Siliziumdioxid (SiO2) und Aluminiumoxid (AlOx).

Technologiekompetenz
Production/Internet/Live