HISS

Horizontale Beschichtungsanlage

Die HISS ist eine modulare Beschichtungsanlage mit einem Carrier-basierten Substrattransport. Sie ist die beste Wahl, wenn Sie nach einer sehr flexiblen Produktionsanlage mit kleinem oder mittlerem Durchsatz suchen, die mit bewährter Technologie ausgestattet ist.

Dank ihres modularen Aufbaus kann die HISS nach Ihren Bedürfnissen konfiguriert werden. Wir bieten verschiedene Konfigurationen an, wie zum Beispiel die Version mit nur einem Ende für einen kleineren Produktionsumfang.

Das System bietet eine hohe Prozessflexibilität, da die Prozesskammer sowohl mit Magnetrons mit planaren als auch mit rotierenden Targets bestückt werden kann. Komponenten zur Ionen-Vorbehandlung sowie zum Heizen und Kühlen sind auf Anfrage verfügbar. Alle angrenzenden Kammern, wie Be- und Entladekammer, Puffer- und Transportkammer können in ähnlicher Weise aufgerüstet werden.

Die flexible und dynamische Konstruktion der Anlage mit standardisierten Unterkomponenten ermöglicht eine kundenspezifische Konfiguration. Die Anlage kann also an neue Prozesse oder Anforderungen angepasst werden. Daher können unsere Kunden mit dieser Anlage auf Änderungen der Anforderungen an Produkt und Prozess reagieren.

Übersicht

Anwendung: Photovoltaik, Präzisionsoptik

Substratform: plan/eben

Substratmaterial: Glas, metals, Polymer, Wafer

Beschichtungstechnologie: Magnetronsputtern von oben nach unten, Magnetronsputtern von unten nach oben

Funktion: Antireflexion, TCO


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