プレスリリース

VON ARDENNEがドイツ・レニンゲンの新しいボッシュ研究キャンパスのためにクラスターシステムを提供

VON ARDENNEがレニンゲンの新しいボッシュ研究キャンパスのためにスパッタクラスターシステムを提供しました。CS500SIは高度にフレキシブルな7室のチャンバーを持つクラスターシステムです。このシステムは、顧客特有の基板の処理をRFプラズマエッチング、DC、RF、イオンビームスパッタリングによって行うのに適しています。RFプラズマエッチングとマグネトロンスパッタリングプロセスはプロセスダウンモードで実行されます。

このシステムは研究・開発の特殊な要件のために設計されています。様々なコーティング材を並行して使用できるようにし、複雑な多層膜構造の生産を可能にします。モジュール設計は、変化していく技術的要求にシステムを柔軟に調節し、将来、新しいレイヤーテクノロジーを統合することを可能にします。

ボッシュはCS500SIを主としてMEMSセンサーの開発に使用する予定です。微小電気機械システム (MEMS) は例えば自動車産業における様々なセンサーに必要です。

複数のプロセスチャンバーを持つシステムのクラスターデザインにより、非常に多くの異なる材料の製膜が可能になります。マグネトロンの共焦点配列によりシステムの柔軟性も向上します。それによって、複数のマグネトロンを使った同じ、または異なる材料の個別、または並行した製膜をわずか1つのプロセスチャンバー内で行うことが可能になります。基板ホルダーおよびその幾何学配列にVON ARDENNEマグネトロンが最適に調節されているので、最高の層特性が保証されています。

接点層の作成に必要な金属の製膜は個別のプロセスチャンバーで行われます。もう1つのプロセスチャンバーは単に絶縁体や透明導電層 (TCO) のようなセラミック材のスパッタリングに役立つのみです。第3のプロセスチャンバーは反応性製膜のために取ってあります。

特殊な、非常に密で高精度の多層膜構造のためにターゲットリボルバー(多数の材料用)付きのイオンビームスパッタリングチャンバーがシステムに統合されました。さらに、補助イオンビーム源により、クラスターシステムの使用範囲が広くなります。特定の温度制御やBIAS処理のような基板の前処理および後処理に関するその他の機能によって、この研究システムは完璧なものになっています。

CS500SIは1996年以来、緊密な関係を保ってきた両社にとって新たなマイルストーンになります。ボッシュの研究・先行開発部門向けに特別設計したコーティングシステムとしてはすでに3台目になります。VON ARDENNEはボッシュの次世代製品の開発の基礎を自社の装置ソリューションによって提供できたことを誇りに思います。

© VON ARDENNE Corporate Archive:スパッタクラスターシステム CS500SI

© Bosch:レニンゲンのボッシュ研究キャンパス

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*VON ARDENNEについて

VON ARDENNEはガラス、ウェハ、金属箔、ポリマー膜といった材料に工業製膜するための装置を開発・製造しています。これらの製膜は表面に新しい機能特性を与えます。製膜の薄さは1nmから数μmまで用途によって異なります。被膜付き材料は、建材ガラス、ソーラーパネルまたはタッチパネルといった製品の基礎となります。

VON ARDENNEは建材ガラス製膜装置と薄膜太陽電池コーティングシステムのリーディングプロバイダーです。中国、日本、マレーシア、台湾、米国に支社をもち、家族経営企業のVON ARDENNEは理想的な現場サービスを提供できるよう顧客への近さを大切にしています。VON ARDENNEの装置は世界50か国以上で稼動しています。

*ボッシュ研究キャンパスについて

レニンゲンにある新しいボッシュ研究キャンパスは、ドイツのアンゲラ・メルケル首相、バーデン=ヴュルテンベルク州のヴィンフリート・クレッチュマン知事、その他政財界、科学の分野から多数のゲストが出席のもと2015年10月14日に公式オープンしました。ロバートボッシュ社は新しい施設に3億1000万ユーロを投資しました。

このキャンパスは技術と科学の様々な分野を組み合わせています。電気工学、機械工学、コンピュータ科学、解析学、化学、物理学、生物学、あるいはマイクロシステムテクノロジー。研究および先行開発の合計1,400人の研究員がレニンゲンで未来の技術的な課題に取り組んでいます。