DAS - Dual Anode Sputtering

デュアルアノードスパッタリング (DAS)は産業的に実証済みのコーティングテクノロジーです。このテクノロジーは、例えばディスプレイや太陽光電池産業で、ニオブ酸化物 (NbOx)、酸化チタン (TiOx)、真性酸化スズ (i-ZnO) のような材料を使ったセラミック処理に適用できます。DAS法は誘電体がスパッタリングされている場合でも、定期的にクリーニングされているので、アノードを利用できます。

DASテクノロジーによって、一般的に使用されているAC-MFモードからDC電源供給のプロセスに切り替え可能なので、基板上の熱負荷を大幅に削減します。反応性プロセスコントロールによるDASスパッタリングのアプリケーションを使って遷移領域において高速度の製膜を達成できます。これは特に二酸化ケイ素 (SiO2) と酸化アルミニウム (AlOx) の製膜にとっては明らかな改善です。

テクノロジーコンピテンス
Production/Internet/Live