DAS - Дуальное анодное напыление

Дуальное анодное напыление являвется апробированной в промышленности технологией нанесения покрытия. DAS может быть применена для керамической обработки таких материалов, как оксид ниобия (NbOx), окись титана (TiOx) или интристивный оксид олова (i-ZnO), к примеру, в дисплеях или фотовольтакие. Метод DAS гарантирует доступность анода даже во время напыления диэлектрического материала, так как происходит его периодичная очистка.

 

Технология DAS дает возможность перейти от самого распостраненного режима AC-MF к процессам на постоянном токе, что значительно уменьшает тепловую нагрузку на подложке. При использовании метода распыления DAS с реактивным управлением технологическим процессом может быть достигнута высокая скорость напыления в области перехода. Это значительное улучшение, в особенности для осаждения диоксида кремния (SiO2) и оксида алюминия (AlOx).

Технологическая компетенция