XEA|nova – рядная система покрытия полупроводниковых пластин с обратной транспортировкой несущего элемента. Она так же подходит для других подложек малых размеров. С помощью этой установки даже очень тонкие подложки могут быть обработаны с обеих сторон без нарушения вакуума и переворачивания подложки. Эти исключительные характеристики XEA|nova позволяют последовательную и одновременную обработку поверхности подложки с обеих сторон.
XEA|nova можно оборудовать вращающимися магнетронами для напыления и также различными источниками-испарителями, как, к примеру, электронно-лучевая пушка. Специальная предварительная обработка подложки, как, например, очистка или травление, осуществляются в вакууме или перед поступлением подложки в вакуум.
XEA|nova выигрывает от нашего опыта, полученного благодаря более чем 140 поставленным нами системам нанесения покрытия для индустрии фотовольтаики. Это прекрасное предложения для клиентов, которые находятся в поиске высокоэффективного и гибкого производственного оборудования в сочетании с апробирован¬ными в промышленности технологиями и дизайном.
