VAprocos2 工艺控制系统

自 1980 年以来,冯阿登纳就一直在反应溅射工艺上处于领先地位。多年来我们还提供并优化了我们的工艺控制系统 VA PROCOS。

如今的 VA PROCOS 2 控制复合膜层(如 ITO、TiO2、TiN、Al2、O3、AlN、SnO2、SiO2、Si3N4、ZnO、ZrO 或 Ta2O5)的反应磁控溅射,并可靠地修正关键过渡区域的工作点。此外,该系统还控制一个或多个反应气体入口(如氮氧化物)。

PLASMA COMPONENTS
技术能力
Production/Internet/Live