DAS - 双阳极溅射

双阳极溅射 (DAS) 是一种经过工业认证的镀膜技术。该技术可应用于显示屏和光伏等行业,使用氧化铌 (NbOx)、氧化钛 (TiOx) 或固态氧化锡 (i-ZnO) 等材料进行陶瓷工艺。DAS 方法能够确保阳极的良好可用性,因为它会定期进行自清洁,即使在溅射绝缘体时也如此。

DAS 技术让我们从常用的 交流-中频模式转至工艺的直流供电,大幅降低基片的热负荷。通过以反应过程控制应用 DAS 溅射,可以实现过渡区域的高沉积率。这是一个显著的进步,特别是对二氧化硅 (SiO2) 和氧化铝 (AlOx) 来说。

技术能力
Production/Internet/Live