辉光放电装置

使用冯·阿登纳辉光放电装置进行基片预处理是清洁温度敏感型非导电材料和表面的理想解决方案。通过低压等离子体放电,以非常温和的方式对基片进行清洁,因为只清除略微粘结的松散原子和分子。

因此,辉光放电装置特别适用于通过绝缘表层(例如清漆表面或阳极化处理铝层)清除聚合物薄膜、玻璃和金属基片上已吸附的水膜。

辉光放电的一个显著优势在于只会产生很少的热量。因此,这种方法可以保护基片,并且只会为后续的镀膜工艺增加很少的热量输入。

技术能力
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