连续处理系统

模块化系统

除了用于大尺寸基片的大型连续式镀膜系统,例如 GC330H 和 PIA|nova®,冯·阿登纳还提供适用于各种应用的小型连续处理系统。

这些系统满足诸多技术要求,因而非常适用于研发和量产。此外,它们还可用于开发和创建具有特定属性和高重复性的新的镀膜技术和膜层。

我们的标准镀膜系统可以处理宽度在 400 至 750 mm 之间的基片。不过,我们还为宽达一米的基片提供特殊的配置。

我们的连续式溅射系统有立式 (VISS) 和卧式 (HISS) 两种配置。这两种配置均采用模块化设计,并且包含以下部件:进料和卸料站、进料真空锁定腔体、预处理腔体、镀膜腔体和出口腔体。各个真空腔体之间由腔体排气装置隔离。在系统设计阶段,我们特别注重系统的操作便捷性和维护简便性,例如易于使用。此外,溅射靶材也很容易更换。

概述

应用: LED 照明, 传感器, 光伏, 医疗器械, 基本研究, 建筑玻璃镀膜, 显示屏和触摸屏, 有机发光二极管, 机械电子 (MEMS, MOEMS), 汽车, 燃料电池, 电池, 精密光学, 装饰性镀膜

基片形状: 三维, 平面/刚性, 柔性

基材: 晶圆, 玻璃, 钢

镀膜技术: ALD, 垂直磁控溅射, 热丝化学气相沉积 (HWCVD), 热蒸发, 电子束技术, 磁控溅射(向上), 磁控溅射(向下), 等离子体增强型化学气相沉积 (PECVD)

功能: 半导体, 反射, 吸收, 基底层, 太阳能控制, 扩散阻挡层, 有源有机发光二极管膜层, 波长滤光片, 电极层, 粘合剂 , 装饰, 透明导电氧化物, 钝化, 防反射, 防腐蚀保护, 隔热

膜层和膜系: Low-E, 三层 Low-E, 双层 Low-E, 太阳能控制

相应的部件和系统:
电子束部件
溅射部件
预处理
测量与软件


相应的设备

进料真空锁定系统

模块化系统

燃料电池

新兴技术

Production/Internet/Live