XENIA

晶圆和玻璃涂层系统

XENIA 是一种连续式镀膜系统,采用了我们专有的大面积溅射技术。镀膜机宽度大,可以同时处理很多基片,特别适用于极低成本、高生产率应用。该系统也适用于其他小尺寸和非常薄的基片。

由于采用模块化设计,XENIA 可以配备旋转磁控管,以溅射沉积高性能透明导电氧化物膜层或者多种其他材料,例如金属和金属氧化物。可以在真空状态下或在基片进入真空状态之前对基片进行预处理,比如对基片进行清洗或蚀刻。

冯·阿登纳已经向光伏产业提供了 140 多个镀膜系统,从中获得的丰富经验也让 XENIA 受益颇多。对寻找高生产率、高度灵活的生产设备与成熟技术和设计的顾客来说,这是您的最佳选择。

概述

应用: 光伏

基片形状: 平面/刚性

基材: , 晶圆, 玻璃, 聚合物

镀膜技术: 磁控溅射(向下)

功能: 电极层, 透明导电氧化物, 钝化, 防反射

膜层和膜系: Ag, AlOx, AZO, Cu, ITiO, ITO, Ni, NiV, Si, SiN, SiOx, 氧化钛, 钛, 铝, 锌

相应的部件和系统:
溅射部件


相应的设备

Production/Internet/Live