XEA|nova®

晶硅镀膜系统

XEA|nova 是一种带有载体返回传输装置的水平晶硅镀膜系统。 该系统也适用于其它小型基片。使用此工具,即使非常薄的基片 也可以进行双面处理,无需破真空或翻转基片。XEA|nova 的显 著特点是能够按顺序对基片的两个表面同时进行处理。

镀膜机装有可旋转的溅射磁控管及蒸发源。可以在真空状态下或 在基片进入真空状态之前对基片进行预处理,比如对基片进行清 洗或蚀刻。

XEA|nova L 是一种连续式镀膜系统,采用了我们专有的大面积 镀膜技术。该系统比 XEA|nova 宽,同时可处理多个基片。因而 尤其适用于低成本、高生产率的应用场景。其适合晶硅或其他较 小的甚至非常薄的基片。

概述

应用: 光伏, 燃料电池

基片形状: 平面/刚性

基材: metals, 不锈钢, 晶圆, 玻璃, 聚合物

镀膜技术: 电子束技术, 磁控溅射(向上), 磁控溅射(向下)

功能: 电极层, 透明导电氧化物, 钝化, 防反射, 防腐蚀保护

膜层和膜系: Ag, AlOx, AZO, C, Cu, ITiO, ITO, Ni, NiV, SiN, SiOx, 氧化钛, 钛, 钴, 铝, 铬, 锌

相应的部件和系统:
溅射部件
预处理


相应的设备

燃料电池

新兴技术

Production/Internet/Live